阳山超声波大型清洗机 东莞市恒芯半导体设备供应

等离子清洗机的电源常用的有两种，阳山超声波大型清洗机，一种是13.56KHz的射频电源，这种电源产生的等离子密度高，能量比较柔和，温度也比较低，功率通常1~2KW，大的可以做到5KW，小的几百W，阳山超声波大型清洗机，是用得多的等离子电源；还有一种是40KHz的中频电源，这种电源与射频电源刚好相反，等离子的密度没有那么高，但是力度猛，能量高，高度也高，功率也很高，大的功率可以做几十KW，甚至从理论上面说，几百个KW，阳山超声波大型清洗机，常用做除胶渣，刻蚀，真空等离子清洗机如果使用中频电源就需要加水冷，这也是常用的一种等离子电源。等离子清洗机在清洗材料表面的同时能够引入多种活性官能团，并增大表面粗糙程度，改善纤维表面自由能。阳山超声波大型清洗机

等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的*四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的*四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。清洗设备货源充足等离子清洗机需要控制的真空度约为100Pa，这种清洗条件很容易达到。

等离子清洗机应用在手机行业的原因是因为，为了寻找解决手机使用中外观磨损过大的方法，曾使用化学药剂对手机塑料外壳进行处理，其印刷粘接的效果有所改善，但这是降低手机外壳的硬度为代价，为了寻求更好的解决方案，等离子技术脱颖而出。等离子表面处理技术不只可以清洗外壳在注塑时留下的油污，更能较大程度的活化塑料外壳表面，增强其印刷、涂覆等粘接效果，使得外壳上涂层与基体之间非常牢固地连接，涂覆效果非常均匀，外观更加亮丽，并且耐磨性较大增强，长时间使用也不会出现磨漆现象。

使用等离子清洗机进行等离子清洗，可以使得清洗效率获得较大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点；等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa，这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高，加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的**溶剂，这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺；使用等离子清洗，避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生；等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是髙分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。

等离子清洗 目的是去除表面残留的光刻胶,因为硅晶片、芯片和高性能半导体都是灵敏性较高的电子元件，对清洗要求是非常高的，具有高度的均匀性，稳定的刻蚀速率；较大地改变了硅晶片原始钝化层的形貌和润湿性，较大提高了附着力效果。精细清洗（元件清洗）低温处理过程不会损伤敏感结构，对表面进行选择性地功能化处理以便进行后续的加工，精益的工艺布局，可搭载流水线实现在线全自动生产，明显的成本节约，提高生产工艺，降低粘接工艺中的不良率。应用非常普遍，在半导体集成电路制作所用的硅晶片中，能够高容量自动化处理多个硅晶片，有效清理掉硅晶片上的氧化物或金属等污染物，在半导体集成电路制作中提高了集成电路的产量、可靠性和性能。等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成。清洗设备货源充足

等离子清洗机，又名等离子设备，是利用等离子体达到常规清洗所不能达到的效果。阳山超声波大型清洗机

等离子清洗机处理效果好、效率高，适合大批量生产加工。等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果。阳山超声波大型清洗机

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